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PBT-650     晶元二流体清洗机

 应用领域：

主要用于高端晶元灰尘的清洗，如下图：

 设备特点：

• 可更换清洗吸盘，可使用4-12英寸的清洗吸盘；
• 操作程序可按作业需求编写调整，设备运行流程、清洗时间及各项参数可自行编制；
• 设备运行状态及参数在线实时监控，自动门配有安全光栅，保证操作安全；
• 采用真空吸附式清洗盘，晶元夹具的取放更安全、方便；
• 摆臂式清洗，清洗范围可编制，适用范围广、无清洗盲区、无二次污染，清洗效果更佳；
• 设备清洗室全密封，且配有自动挡水圈，有效防止二次污染；
• 高速离心设计，转速可调节100-2000R/Min；
• 配备独特的静电消除装置，辅助清洗达到最佳效果，可选择使用氮气；
• 设备配有大面积透明观察窗；
• 缩减宽度的省空间设计，结构紧凑，占用空间小；
• 整机镜面不锈钢机身，能耐酸碱，对工作环境无污染，镜面机壳易于保养。

 清洗工艺：

 放入物料  ---- 一键清洗开始，安全门自动关闭  ----  二流体清洗 --- 离心脱水（去静电离子风与加热腔体辅助干燥) --- 清洗完毕 --- 报警提示  --- 玻璃门自动打开。

采用高速离心设计，主要使用于4-12英寸的硅晶圆片的精密清洗；搭配二流体清洗、静电消除/氮气、高速离心等装置，使被清洗件达到干燥、洁净的目的。

技术参数：